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> Plasma measurement systems > NIEA |
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| 문제점의
조기파악 |
명확한
현상파악 |
신속한
대책수립 |
높은
운영 용이성 |
- 매우높은 Sensitivity를
바
- 탕으로 공정의 미세한 변
- 화를 사전에 포착
- 향 후 큰 문제가 나타나기
- 전에 조기 파악 |
- 명확히 정의되고 직관적
- 인 양인 IEDF를 이용
- 기존의 Monitoring 장비들
- 에 비해 매우 명확한 현상
- 파악 |
- 공정과의 상관성이 높은
- Data를 이용
- 대책 수립시 문제의 분리
- /선별에 유리함 |
- 전극과 Matching 사이에
- 작은 크기의 센서 장착
- 챔버에 추가 가공이 필요
- 없고 챔버 외부에 장착
- 소모성 파트가 없이 반영
- 구적으로 사용 가능 |
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비침투식 이온 에너지 분석 방법은 전기적으로 부유 되어있는 기판에 입사하는 이온의 에너지 분포를 기판에
분석 장치를 삽입하지 않으면서 기판 바이어스 전압과 전류를 측정한다. |
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| Parameter |
Description |
| IEDF |
이온 에너지 분포 |
| Emean |
평균 이온 에너지 |
| Estd |
이온 에너지 분포의 표준 편차 |
| Elow |
Low energy peak의 위치 |
| Ehigh |
High energy peak의 위치 |
| Nlow |
Low energy peak의 높이 |
| Nhigh |
High energy peak의 높이 |
| Estd/Emean |
정규화된 표준편차 |
| Skewness |
에너지 분포의 비대칭성에 대한 지표 |
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센서부:
바이어스에 걸리는 라디오 주파수(RF)의 전압과 전류를 측정한다. RF 센서는 모니터링 변수의 정밀도와 관련된 부분으로 고전압과 고전류에서 안정적으로 동작하고 장비의 impedance 특성에 영향을 끼치지 않도록 제작되어진다. |
제어부:
센서에 의해 검출된 신호를 측정하고, 측정된 신호를 가공하고, 그 데이터를 바탕으로 이상유무 검출 및 system 또는 사용자 소프트웨어와의 interface를 수행한다. |
측정 소프트웨어:
센서로부터 얻어진 전압신호(Vm)와 전류신호(Im)를 이온에너지 분포함수로 표현해주는 프로그램으로 측정한 IV 신호를 이온에너지 분포함수로 변환시키는 알고리즘, 측정 환경을 설정할 수 있는 메뉴 창 등이 포함됨 사용자 환경 소프트웨어 등으로 구성된다. |
이온에너지 분포의 통계적 처리를 위한 소프트웨어:
공정과 모니터링 인자의 행태를 지속적으로 저장하고 분석해주는 프로그램이다. 필수적으로 갖추어야 할 조건은 다음과 같다. 공정의 편화에 민감한 지표일 것. 공정 특성 변화에 따라 서로 독립적인 변화 특성을 보일 것. 공정 특성 변화를 유추하기에 용이한 인자일 것. |
| In-situ monitoring |
소자의 집적화/웨이퍼의 대면적화에 따른 공정실패 비용증가
Lot 단위의 공정/test는 손실 비용이 매우 큼 |
| Well-defined/Intuitive parameter
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| 기존의 monitoring장비들은 플라즈마/공정에 대해 간접적인 양을 측정/계산 |
| Non-invasive measurement |
| 챔버에 삽입되는 경우 적용의 한계가 있음 |
Non-invasive Ion Energy Analyzer
Plasma Monitoring System |
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